_____________________
Обозначения и сокращения
- VB – пробивное напряжение диода при заданном уровне обратного тока;
- VRRM - повторяющееся пиковое обратное напряжение;
- VR - постоянное обратное напряжение;
- VF - постоянное прямое напряжение диода при заданном значении прямого тока;
- VESD - напряжение, характеризующее устойчивость диода к воздействию электростатического разряда;
- IR – ток утечки диода (обратный ток) при заданном обратном напряжении;
- IF - прямой ток;
- IF(AV) - cредний прямой ток диода;
- IFSM - не повторяющийся пиковый ударный прямой ток;
- IRRM – повторяющийся пиковый обратный ток;
- EAS – не повторяющаяся лавинная энергия;
- TJ – максимальная рабочая температура перехода;
- ESD – электростатический разряд;
- ESD HBM - электростатический разряд по модели человеческого тела.
- DC - постоянный (ое) …
- mil – 1/1000 доля дюйма (1mil=25,4мкм).
Основные характеристики диодов Шоттки.
- Широкий диапазон рабочих токов и напряжений : IF(AV)=0,5÷60A; VRRM=15÷200В;
- Высокое значение прямого ударного тока – IFSM;
- Низкое прямое напряжение – VF;
- Малые значения обратных токов – IR;
- Низкая рассеиваемая мощность;
- Три класса диодов, отличающихся диапазоном рабочих температур:
а) высокотемпературные диоды Шоттки с супер-низким уровнем обратных токов;
б) стандартные диоды Шоттки;
в) низкотемпературные диоды Шоттки с низким уровнем VF.
Таблица №1.
Классификация ДШ
|
Диапазон основных параметров
|
IF(AV), (A)
|
VRRM, (В)
|
VF, (В)
|
IR, (mА)
|
Высокотемпературные ДШ.
TJ.=175ºC.
|
1,0÷60,0
|
45÷250
|
0,66÷0,88
|
0,004÷0,013
|
Cтандартные ДШ.
TJ.=150ºC.
|
1,0÷30,0
|
20÷60
|
0,43÷0,68
|
0.040÷0,400
|
Низкотемпературные ДШ.
TJ.=125ºC.
|
0,5÷20,0
|
15÷40
|
0.30÷0,38
|
0.25÷10,0
|
-Высокие технические характеристики EAS и IRRM, характеризующие надежность прибора при воздействии стрессовых перегрузок в режиме лавинного пробоя.
-Высокая устойчивость к воздействию электростатических разрядов, соответствующая требованиям стандартов JEDEC и MIL-STD-883G c уровнем VESD=+/-8kV (контакт) по модели человеческого тела (С=100pF, R=1500ohm), а также требованиям к электронным компонентам для автомобильной электроники, устанавливаемым стандартом AEC-Q101-001.
-Электрические характеристики подтверждаются тестированием 100% кристаллов в нормальных условиях (ТА=25ºС) по основным параметрам: VB, IR, IRRM , а также выборочным тестированием кристаллов на каждой пластине по параметру VF при номинальном значении прямого тока IF(AV).
Значение обратного тока при повышенной температуре тестируется на выборках кристаллов на 100% пластин.
Соответствие остальных параметров требованиям спецификаций гарантируется конструкцией кристаллов.
После тестирования электрических параметров проводится контроль внешнего вида с выбраковкой потенциально ненадежных кристаллов на 100% пластин.
ЗАО «ВЗПП-Микрон» производит и поставляет кристаллы диодов Шоттки в составе неразделенных пластин диаметром 100мм и 150мм. При этом потребителям предоставляется возможность выбора варианта исполнения кристалла в зависимости от используемого метода сборки прибора:
а) кристалл с Al металлизацией лицевой стороны (анод) – для монтажа внутренних выводов методом ультразвуковой сварки;
б) кристалл с многослойной металлизацией анода Al-Ni-Ag- для монтажа в корпус методом пайки с применением PbSn припоев.
Металлизация катода -Ti-Ni-Ag позволяет проводить монтаж кристалла на кристаллодержатель методом пайки с применением PbSn припоев.
Потребителю также предоставляется возможность выбора подходящего ему размера кристалла, исходя из оптимального соотношения цены и качества.
Упаковка и хранение пластин с кристаллами ДШ.
Пластины с кристаллами ДШ упаковываются в полипропиленовые футляры. Пластины укладываются в футляр через прокладки из не пылящего материала и через каждые 5 пластин прокладываются прокладками из поролона. В каждый футляр вкладывается упаковочный ярлык на котором указан тип ДШ, номер партии, количество пластин и количество годных кристаллов, а также полный перечень пластин с указанием их номеров и количества годных на каждой пластине.
Каждый футляр помещается в полиэтиленовый пакет, из которого откачивается воздух . Далее пакет запаивается и упакованные пластины хранятся в вакууме с целью сохранения высоких потребительских свойств в процессе транспортировки и при хранении в складских условиях в течение длительного времени.
Гарантийный срок хранения пластин без нарушения вакуумной упаковки – один год. После вскрытия вакуумной упаковки пластины должны храниться в контролируемой атмосфере осушенного азота и в течение не более 30 суток должны быть запущены в производство и пройти операцию герметизации (загерметизированы в корпус или залиты защитным слоем компаунда).
При нарушении гарантийных сроков хранения пластины подлежат дополнительному тестированию для оценки возможности их использования в производстве с какими-либо доработками или без таковых.
Указания по применению.
1. Вскрытие вакуумной упаковки и футляра с пластинами должно проводиться в чистом рабочем помещении класса 100000 и выше с параметрами микроклимата в рабочей зоне: Т=23+/-5ºС и влажности 45+/-5%.
2. Пластины ДШ утоняются методом шлифовки до толщины 200-300мкм. Поэтому они очень хрупкие и требуют к себе бережного и аккуратного обращения. С целью снижения вероятности боя пластин при перегрузке их из футляра в транспортные кассеты рекомендуется снять крышку и перевернуть футляр вверх дном на плоскую поверхность (на стол). Затем аккуратно поднять корпус футляра, освобождая при этом пластины вместе с поролоновыми и бумажными прокладками. Теперь можно с помощью вакуумного пинцета брать пластины и переносить их в транспортную кассету. После снятия крышки целесообразно положить на её место плоскую пластину из любого материала для исключения возможности выпадения пластин из футляра в процессе его перевертывания. Применение пинцетов с механическим захватом крайне не желательно в связи с высокой вероятностью появления трещин и сколов.
3. Разделение пластин на кристаллы рекомендуется проводить методом дисковой резки алмазными дисками, обеспечивающими ширину реза 25-35мкм, с последующей промывкой в проточной деионизованной воде. Промывка должна обеспечивать полное удаление продуктов резки с поверхности кристаллов.
4. Монтаж кристаллов на кристаллодержатель рекомендуется проводить методом пайки с применением припоев или припойных паст на основе Pb/Sn в защитной атмосфере водорода или формир-газа (N2+H2 с содержанием H2 не менее 5%). Также возможно применение метода вакуумной пайки. Максимальная температура в процессе пайки кристаллов ДШ высокотемпературной и стандартной серии не должна превышать 420 ºС , а для кристаллов низкотемпературной серии - 350 ºС. Время выдержки кристаллов при максимальной температуре должно быть минимизировано для предотвращения изменения спецификационных параметров. Кристаллодержатель перед пайкой должен быть очищен от загрязнений и окисных пленок химическим методом или отжигом в водородной среде. Аналогичные рекомендации распространяются и на процесс сборки кристаллов с серебряной металлизацией анода (лицевой стороны).
5. Для кристаллов с Al металлизацией лицевой стороны (анода) монтаж внутренних выводов должен проводиться методом ультразвуковой сварки алюминиевой проволокой диаметром 250-400мкм. Диаметр проволоки и количество проволок рекомендуется оптимизировать в зависимости от размеров металлизации анода и спецификационных требований к параметрам прибора (VF, IFSM). При этом необходимо учитывать, что увеличение количества проволок позволяет улучшить токораспределение по площади кристалла и за счет этого улучшить параметры VF, IFSM. Кроме того, увеличение количества проволок при уменьшении их диаметра позволяет снизить вероятность возникновения механических напряжений и микротрещин в месте сварки. При этом снижается вероятность повреждения и деградации барьера Шоттки. Повышается надежность прибора. Точки сварки должны быть равномерно распределены по площади анода.
6. Перед корпусированием сборка должна быть очищена от загрязнений и отожжена 2-3 часа при 150ºС для удаления влаги с поверхности кристалла. При корпусировании в не герметичный корпус кристалл рекомендуется покрыть силиконовым защитным слоем. Процесс покрытия проводить в атмосфере осушенного азота.
|